Científicos chinos en Shenzhen desarrollaron un prototipo de máquina para litografía ultravioleta extrema (EUV), que sirve para el desarrollo de chips semiconductores previamente fabricados solo en occidente. La máquina puede generar luz EUV, aunque no se prevé la producción de chips hasta el 2028. El logro es le resultado del “proyecto Manhattan” de Huawei, que en seis años logró avanzar en la independencia en materia de semiconductores usando ingeniería inversa, reclutando a veteranos chinos de ASML Technology, y adquiriendo componentes en mercados secundarios para evadir los controles de exportación estadounidenses.

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