Die EUV-Lithografie unterliegt betrieblichen Kennzahlen.

Von Wafern pro Stunde über stochastische Fehlerraten bis hin zu Ausfallkosten definieren diese KPIs, was technisch möglich und wirtschaftlich rentabel ist.

In dieser Folge werden die wichtigsten EUV-relevanten Kennzahlen und ihre Vor- und Nachteile erläutert.

Wichtige Erkenntnisse

- WPH spiegelt Physik, Chemie und Systemeffizienz wider

- Die Verfügbarkeit ist oft wichtiger als der Spitzendurchsatz

- Die EUV-Ausbeute wird durch stochastische Effekte begrenzt

- Die Dosis verbindet die Musterqualität mit der Produktivität

- Die Ausfallkosten haben einen starken Einfluss auf die Wirtschaftlichkeit von EUV

Glossar

WPH: Pro Stunde verarbeitete Wafer

OEE: Gesamtanlageneffektivität

Overlay: Genauigkeit der Ausrichtung zwischen den Schichten

DOF: Tiefenschärfetoleranz

COO: Betriebskosten

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