Une machine de lithographie High-NA coûte 400 millions de dollars, mais son plein rendement dépend d’une plaque de quartz qui doit doubler de taille. Pour débloquer 40 % de productivité, ASML, TSMC, Samsung et Intel imposent le standard du photomasque 12 pouces. Une course d’ingénierie silencieuse qui redéfinit la frontière des semi-conducteurs et menace d’exclure les acteurs secondaires.
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