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CMOS工程で製造可能…湘南工科大が考案、低コスト・高速DRAMの構造


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「CMOS工程で製造可能…湘南工科大が考案、低コスト・高速DRAMの構造」 湘南工科大学の渡辺重佳名誉教授は、汎用の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスで製造可能な、低コストな高速Gainセル型DRAMを新たに考案した。「ゲートオールアラウンド(GAA)」構造を用いたトランジスタ2―3個をメモリセル構成に用いたGainセルを縦方向に積層して共通ビット線で接続する。
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