「シリコン基板UV転写…東京科学大と東京応化、低コスト光回路に貢献」　東京科学大学の雨宮智宏准教授、永松周学士課程学生、西山伸彦教授らは、東京応化工業と共同で、紫外線（ＵＶ）ナノインプリントを使ったシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発した。ナノインプリント用の光硬化性樹脂と、電子線描画による光導波路と変わらない特性のシリコン導波路を作製。大面積に転写でき、光電融合も見据え、高スループットかつ低コストに光回路を作れる。