Superfeine Strukturen auf Halbleiterbauelementen entstehen mithilfe von Lithografiemaschinen. In den meisten stecken optische Komponenten der Firma Zeiss und ihrer Halbleitersparte aus dem schwäbischen Oberkochen.

Für Chips der 7-Nanometer-Klasse und darunter kommt Lithografie mit Licht beziehungsweise Strahlung aus dem extremen ultravioletten (EUV-)Spektrum zum Einsatz. Solche EUV-Systeme kann weltweit nur die Firma ASML liefern, an der Entwicklung waren die deutschen Firmen Zeiss (Optik), Trumpf (Laser) sowie ein europäisches Hochtechnologienetzwerk entscheidend beteiligt. Bei dieser Entwicklung wurden zahllose technische Probleme erfolgreich gelöst, woran insgesamt Tausende Menschen arbeiteten.

Dr. Peter Kürz arbeitet seit 1999 bei Zeiss federführend an der EUV-Entwicklung und erhielt dafür gemeinsam mit seinen Kooperationspartnern von Trumpf und dem Fraunhofer IOF den Deutschen Zukunftspreis 2020 des deutschen Bundespräsidenten.

Mit Dr. Kürz spricht c’t-Redakteur Christof Windeck in Folge 2023/5 von „Bit-Rauschen: der Prozessor-Podcast“ unter anderem über die nächste Generation der EUV-Lithografie: Systeme mit großer Numerischer Apertur (NA), sogenannte High-NA-EUV-Maschinen. Wie die Halbleiterknappheit kürzlich bewies, sind aber weiterhin auch Chips mit gröberen Strukturen gefragt, für die man Systeme mit „Deep Ultraviolet“ (DUV) verwendet.

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